




氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置
科儀產(chǎn)品主要有:薄膜制備設(shè)備,真空冶金設(shè)備,檢漏設(shè)備,真空系統(tǒng)等非標(biāo)真空產(chǎn)品;系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設(shè)備;系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無(wú)油真空獲得設(shè)備;檢漏儀常規(guī)的維護(hù)適當(dāng)?shù)木S護(hù)您的檢漏儀是非常必要的,具體步驟如下:1、探頭清潔:利用附送的防護(hù)罩防止灰塵、水汽和油脂阻塞探頭,在使用本儀器前,均要檢查探頭和防護(hù)罩確無(wú)灰塵或油脂。超高真空環(huán)境模擬設(shè)備等高新技術(shù)產(chǎn)品。今天科儀的小編就和大家分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對(duì)您有所幫助!
1. 檢漏儀專用分子泵
2. 機(jī)械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專用電磁閥
4. 內(nèi)置標(biāo)準(zhǔn)漏口
5. 放大器
6. 采用質(zhì)譜專用模塊
以上是科儀為您一起分享的內(nèi)容,科儀專業(yè)生產(chǎn)氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。
氦質(zhì)譜檢漏儀的進(jìn)展
經(jīng)過(guò)近半個(gè)世紀(jì)的努力,今天的氦質(zhì)譜檢漏儀已告別了四十年代初期的情形。
集中體現(xiàn)在如下幾個(gè)方面:
(1)便攜式:近各國(guó)推出的小型便攜式檢漏儀不僅靈敏度高,而且便于攜帶,給野外作業(yè)和高空作業(yè)提供了比較大的方便。
(2)高壓強(qiáng)下檢漏:檢漏口壓強(qiáng)可高達(dá)數(shù)百帕左右,對(duì)檢測(cè)大系統(tǒng)和有大漏的工件很有益。
(3)自動(dòng)化程度高:自動(dòng)校準(zhǔn)氦峰,自動(dòng)調(diào)節(jié)零點(diǎn),量程自動(dòng)轉(zhuǎn)換,自動(dòng)數(shù)據(jù)處理,可外接打印機(jī)。整機(jī)由微機(jī)控制,菜單的選擇功能,一個(gè)按鈕即可完成一次的全檢漏過(guò)程。
(4)全無(wú)油的干式檢漏:有些國(guó)家生產(chǎn)的檢漏儀,可采用干式泵,達(dá)到無(wú)油蒸氣的效果,為無(wú)油系統(tǒng)及芯片等半導(dǎo)體器件的檢漏,提供了有利條件。
(5)檢漏范圍寬:現(xiàn)今生產(chǎn)的四極檢漏儀,質(zhì)量范圍很寬,不僅可檢測(cè)氦氣,而且能檢測(cè)其它氣體。
分子泵排氣系統(tǒng)取代擴(kuò)散泵排氣系統(tǒng),不僅解決了油蒸氣對(duì)質(zhì)譜室的污染問題,而且對(duì)快速啟動(dòng)儀器和快速停機(jī)做出了很大貢獻(xiàn)。為適應(yīng)檢漏口壓強(qiáng)的變化和對(duì)靈敏度要求的不同,分子泵一般采用多級(jí)構(gòu)造和幾種不同的轉(zhuǎn)速。
例如:瑞士、日本采用改變分子泵轉(zhuǎn)速來(lái)達(dá)到此目的,且提高檢漏靈敏度。
另外,逆擴(kuò)散檢漏方式,實(shí)現(xiàn)了高壓強(qiáng)下檢漏,也為正壓吸槍檢漏提供了良好的條件。
氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展二
電力行業(yè)
SF6高壓開關(guān)和氧化鋅避雷器是發(fā)電廠及野外輸變電的重要組成部分,往往因泄漏造成大面積或局部停電,影響工業(yè)生產(chǎn),又妨礙人們的正常生活。因此帶來(lái)的經(jīng)濟(jì)損失有時(shí)是難以估量的。
1)高壓開關(guān)在連箱是鋁鑄件,往往容易有砂眼,且漏孔結(jié)構(gòu)復(fù)雜,不易清洗。一般采用檢漏盒或氦罩法,即把被檢件抽真空,然后向罩內(nèi)充入氦氣,等待一定時(shí)間,確定總漏率的大小。因氦氣的用量小,檢測(cè)靈敏度就高。
2)氧化鋅避雷器,是根據(jù)電壓高低要求,采用不同截面積、不同厚度和不同數(shù)量的氧化鋅片,裝在瓷套中,充入氮?dú)夂竺芊狻F涔ぷ髟硎窃诟邏狠敵鲋腥缬隼讚?,氧化鋅片電阻變小,大電流對(duì)地短路,輸電線路被保護(hù)。2)KM6空間環(huán)模裝置設(shè)備龐大,主真空室直徑12m、高22m,另外有輔助真空室和載人艙等。如果泄漏造成內(nèi)外沒有壓差,外部潮濕氣體有可能進(jìn)入,而破壞氧化鋅片特性,造成爆1炸。
3)電力行業(yè)中,電廠的檢漏、高壓變壓器、高壓電容器、高壓開關(guān)管及其它元器件也都相應(yīng)的采用氦質(zhì)譜檢譜檢漏儀,用不同方法進(jìn)行檢漏。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)
檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度,正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí),在漏點(diǎn)處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。
檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。氦質(zhì)譜檢漏儀主要特點(diǎn):前級(jí)泵配備抽速高達(dá)15m3/h旋片泵,對(duì)氦氣抽速可達(dá)2。
清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。筆者測(cè)算,在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須1分鐘;氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度,正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間約須2分鐘;在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí),清除時(shí)間在3分鐘左右。
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